蚀刻技术、蚀刻液配方、蚀刻机专利大全
|
1 CN01118337.3 介电层的蚀刻制程
2 CN02126848.7 用以监控双载子晶体管射极窗蚀刻制程的方法
3 CN01805193.6 蚀刻方法
4 CN02128295.1 应用于约束等离子体反应室的半导体双镶嵌蚀刻制作过程
5 CN01124118.7 等离子体蚀刻气体
6 CN01140819.7 蚀刻多晶硅层以形成多晶硅闸极的方法
7 CN02130235.9 利用等离子体约束装置的等离子体蚀刻装置
8 CN02108303.7 抗蚀剂和蚀刻副产品除去组合物及使用该组合物除去抗蚀剂的方法
9 CN00817395.8 粗蚀刻硅太阳能电池的工艺
10CN01141914.8 一种用于制造半导体组件的干式蚀刻方法
11CN01136266.9 用电脑刻绘光固化技术蚀刻贝壳海螺的方法
12CN01136227.8 用电脑刻绘光固化技术蚀刻玻璃的方法
13CN00817764.3 基于激光器可转换波长的蚀刻电路板加工系统
14CN01136692.3 蚀刻反应室动态微尘污染状态检测方法
15CN01144495.9 腐蚀剂和具有用腐蚀剂蚀刻之铜线的阵列式基片
16CN02152161.1 复印／传真／打印机铝型材配件化学纹理蚀刻的方法
17CN02159350.7 低回损蚀刻衍射光栅波分复用器
18CN01130382.4 一种氧掺杂硅碳化合物蚀刻停止层
19CN02160227.1 蚀刻液
20CN01142993.3 形成具有高深宽比的沟槽的蚀刻方法
21CN01808708.6 用于无机表面的蚀刻糊
22CN01808503.2 改善蚀刻多晶硅的均匀性和减少其蚀刻速率变化的方法
23CN01118679.8 防止介层窗过度蚀刻的方法及其构造
24CN02124909.1 蚀刻的方法
25CN02106404.0 包括聚酰亚胺层的叠层组件的蚀刻方法
26CN01803460.8 用于半导体蚀刻室的内衬
27CN01804293.7 湿法蚀刻剂组合物
28CN01122794.X 形成具有抗蚀刻效应的光阻的方法
29CN01120689.6 利用化学干蚀刻形成圆弧化边角的方法
30CN02127815.6 金属薄膜干蚀刻的后处理方法及蚀刻与去光阻的整合系统
31CN02141824.1 蚀刻法及蚀刻液
32CN00808764.4 利用磁组件蚀刻薄荫罩的方法
33CN01144814.8 去除焊垫窗口蚀刻后残留聚合物的方法
34CN01809636.0 用于高锰酸盐蚀刻液电化学再生的阴极
35CN01809336.1 制造电极的蚀刻方法
36CN01145141.6 在溅镀蚀刻工艺中监控蚀刻腔体内离子浓度的方法及装置
37CN02100957.0 利用非等向性湿蚀刻法来进行平坦化的方法
38CN01810393.6 一种在使用下游等离子体的绝缘蚀刻器中的改进的抗蚀剂剥离
39CN00805123.2 在栅极蚀刻处理后用湿式化学方法去除氧氮化硅材料
40CN00819168.9 除去剩余光致抗蚀剂和残留侧壁钝化物的原位后蚀刻方法
41CN02103423.0 有机底部抗反射涂布层的蚀刻方法
42CN02103189.4 在同一蚀刻室进行介层窗蚀刻的方法
43CN01811690.6 基于近红外分光计控制金属层蚀刻过程及再生用于金属层蚀刻过程的腐蚀剂的方法
44CN02106864.X 增进介电抗反射涂布层的光阻蚀刻选择比的方法
45CN03103798.4 沟道蚀刻薄膜晶体管
46CN02123083.8 控制接触窗微距的蚀刻方法
47CN02112346.2 蚀刻衍射光栅波分复用器
48CN03113481.5 天然大理石彩色蚀刻画及其制作方法
49CN03124018.6 蚀刻剂及蚀刻方法
50CN01815622.3 多晶硅栅极蚀刻后的无机抗反射涂层的干式各向同性移除
51CN02116110.0 降低氮化硅的湿蚀刻速率的方法
52CN03129753.6 影像传感器单层导线架二次半蚀刻制备方法及其封装结构
53CN02107870.X 利用微影蚀刻制程制作喷墨式打印头的喷孔片的方法
54CN02107943.9 减少废气排放量的蚀刻方法
55CN02106281.1 形成黏性强化层于铜层与蚀刻停止层间的方法
56CN02110120.5 金属蚀刻画的制造方法
57CN01814265.6 用于清洁半导体设备上有机残余物和等离子蚀刻残余物的组合物
58CN01812958.7 解决与蚀刻沟道过程有关的光学边缘效应的器件与方法
59CN01814891.3 用于有机硅酸盐玻璃的低K蚀刻应用中的蚀刻后由氢进行的光刻胶剥离
60CN01815034.9 磁控管等离子体用磁场发生装置、使用该磁场发生装置的等离子体蚀刻装置和方法
61CN01812321.X 相对于未掺杂二氧化硅和氮化硅能选择性蚀刻掺杂二氧化硅的蚀刻剂,其使用方法和形成的结构
62CN01815564.2 有助于残留物去除的各向同性电阻器保护蚀刻
63CN01125076.3 可去除蚀刻制程后的残留聚合物及降低氧化物损失的方法
64CN01123813.5 检测接触窗蚀刻结果的方法
65CN02125972.0 喷蚀刻法
66CN95107982.4 电路板碱性蚀刻废液的处理方法
67CN95109260.X 蚀刻规版直接蚀刻工艺
68CN95112433.1 玻璃钢表面蚀刻技术
69CN96190233.7 带有蚀刻电极的等离子体寻址液晶显示器
70CN96107160.5 利用等离子体约束装置的等离子体蚀刻装置
71CN96110803.7 铜及铜合金的微蚀刻剂
72CN96119880.X 用离子注入湿化学蚀刻使基底上的构图结构平面化的方法
73CN95193863.0 化学蚀刻装置及方法
74CN95194453.3 废蚀刻液重复使用的方法
75CN96109855.4 用于半导体晶片干燥蚀刻的等离子体加工装置
76CN96101855.0 再生碱性蚀刻补充液的制备方法及其装置系统
77CN96113405.4 半导体器件制造工艺中的等离子体蚀刻法
78CN97111154.5 采用蚀刻技术制作电容的方法
79CN97106343.5 网印玻璃蚀刻(蒙砂)油墨
80CN97110135.3 一种在大理石上影雕蚀刻图像的方法
81CN85108628 对印刷电路原料板钻孔内塑料层的去涂及蚀刻工艺
82CN86103055 含有环状氟化磺酸盐表面活性剂蚀刻溶液
83CN85101035 高压铝阳极箔两步电化学蚀刻方法
84CN85101034 高压铝阳极箔的两步电化学和化学蚀刻法
85CN86103233 利用氟化气体混合物进行硅的等离子体蚀刻
86CN85106153 在印刷电路板上蚀刻铜膜的方法
87CN87108379 蚀刻玻璃及其制造方法
88CN87101014 金属蚀刻版画
89CN87103172 花岗石上蚀刻字画的化学溶解液及方法
90CN88100801.X 滚筒(轮)钢模快速深度化学蚀刻
91CN90110066.8 使用卤化物的铜蚀刻方法
92CN90106689.3 铝板表面的化学蚀刻方法
93CN92100113.4 大理石和玻璃上蚀刻字画的工艺
94CN91100122.0 废蚀刻液中铜的回收方法
95CN92112389.2 处理蚀刻剂的方法
96CN93104848.6 玻璃表面蚀刻字画的方法
97CN93105459.1 处理氯化铜蚀刻废液的方法和设备
98CN92107793.9 大理石碑刻——蚀刻工艺
99CN93117250.0 蚀刻圆筒形模板的方法和装置
100 CN93112000.4 电子移印机专用钢模凹版蚀刻液
101 CN93120826.2 一种具有高蚀刻性能的合金薄板
102 CN93108871.2 天然大理石快速保真蚀刻方法
103 CN93121415.7 玉石无毒蚀刻工艺
104 CN94120116.3 氨性蚀刻装置中加速蚀刻及沉积金属的方法
105 CN95102458.2 电解质电容器用的铝箔蚀刻方法
106 CN94193307.5 铜蚀刻液用添加剂
107 CN94120780.3 蚀刻闪光灯成象
108 CN95107098.3 用激光束蚀刻胶片时驱动和定位胶片的设备
109 CN94190776.7 蚀刻半导体片的方法和装置
110 CN95104793.0 具有激光蚀刻阻当功能的高密度结构及其设计方法
111 CN94115526.9 一种不锈钢快速深度电化学蚀刻方法
112 CN94115524.2 一种不锈钢超微精细蚀刻方法
113 CN94192428.9 使激光蚀刻表面上所形成的衍射槽纹最小化的方法
114 CN95118641.8 清除溴化物气蚀刻用真空处理室的方法
115 CN94119065.X 铝及铝合金表面精细蚀刻技术
116 CN94113369.9 铜及铜合金表面精细蚀刻技术
117 CN95107187.4 在宝石上蚀刻铭文的方法
118 CN97103587.3 在花岗岩材质上影雕蚀刻图像的方法
119 CN97111511.7 干式蚀刻器中残留气体的去除装置及去除方法
120 CN97102359.X 使传感器间距最佳化的浅蚀刻空气轴承表面特征
121 CN95197579.X 盘驱动滑动触头的部分蚀刻的保护外敷层
122 CN97119323.1 阴罩的制造方法及其所用的耐蚀刻层涂敷装置
123 CN96193795.5 具有蚀刻玻璃隔离片的等离子体液晶显示器
124 CN97122693.8 在超声场的存在下用稀化学蚀刻剂控制二氧化硅蚀刻速率
125 CN97117805.4 制造蚀刻轧辊的方法和装置
126 CN97107903.X 玻璃镜面装饰图文空版蚀刻方法
127 CN98100083.5 一种等离子体蚀刻装置及其方法
128 CN97104899.1 在不锈钢管上形成蚀刻图案的方法
129 CN98106484.1 具有三个蚀刻深度的双蚀刻台阶垫空气轴承结构
130 CN97111121.9 化学蚀刻形成盲孔的多层电路板制法
131 CN98100453.9 一种径迹蚀刻膜防伪标志及其制造方法
132 CN97110673.8 光化学蚀刻制做金属照片技术
133 CN98102315.0 接触窗及接触窗蚀刻方法
134 CN98113977.9 金属板蚀刻书画工艺制品
135 CN99106300.7 在铝/铜金属线路上除去活性离子蚀刻后的聚合物
136 CN98119218.1 降低在蚀刻氮化物时产生微负载的方法
137 CN96194041.7 等离子体蚀刻系统
138 CN98124902.7 从氧化硅膜选择蚀刻氮化硅膜的方法
139 CN98120768.5 硬蚀刻掩模
140 CN97195310.4 防蚀刻洗瓶溶液
141 CN99112632.7 金属立体蚀刻防护模板空心技术
142 CN98126518.9 蚀刻组合物及其用途
143 CN98105624.5 利用多晶硅半球的晶粒回蚀刻来形成电容器的方法
144 CN97192752.9 三维蚀刻方法
145 CN97116600.5 氮化物材料的蚀刻方法
146 CN97116255.7 汽车玻璃防盗标识蚀刻剂
147 CN98117918.5 金属氧化物/光致抗蚀膜积层体的干蚀刻方法
148 CN98120607.7 在掩膜二氧化硅上钻孔的等离子蚀刻方法
149 CN98114980.4 减少集成电路制造过程中侧壁堆积的金属蚀刻方法
150 CN98118803.6 用于蚀刻含有二氧化硅的层的方法
151 CN98120900.7 用于进行平面化和凹入蚀刻的方法及装置
152 CN98125215.X 蚀刻方法
153 CN99127764.3 铝/铜金属连线上反应离子蚀刻后聚合物的清除方法
154 CN00102364.0 改善光刻胶耐蚀刻性的方法
155 CN99103329.9 手工蚀刻印刷工艺方法
156 CN00102991.6 蚀刻和清洗方法及所用的蚀刻和清洗设备
157 CN98803127.2 使用选择蚀刻技术形成超导器件的方法
158 CN99800758.7 单向性蚀刻的声表面波换能器
159 CN99800385.9 应用羧酸羟铵除去耐蚀膜和蚀刻残余物的组合物和方法
160 CN99118090.9 等离子体蚀刻设备和用这种设备制造的液晶显示模块
161 CN99120400.X 根据累积处理数目而采用不同蚀刻时间的蚀刻系统及方法
162 CN98804902.3 制造蚀刻高尔夫球棒零件的方法
163 CN00117311.1 铝合金表面化学纹理直接蚀刻的方法
164 CN00108727.4 具有蚀刻背面的磷硅酸盐玻璃层的全集成热喷墨打印头
165 CN99118488.2 可形成均匀蚀刻液膜的装置
166 CN99802656.5 尤其用于磁或磁光记录的磁蚀刻方法
167 CN00800080.8 用于去除抗光蚀剂和蚀刻残留物的含有氟化物的酸性组合物
168 CN00127588.7 含镍三氯化铁蚀刻废液再生和镍回收方法
169 CN00801036.6 敏射线树脂组合物及其改进其防干性蚀刻性能的方法
170 CN00136167.8 导电膜蚀刻剂及蚀刻方法
171 CN99811286.0 低污染、高密度等离子蚀刻腔体及其加工方法
172 CN00801314.4 敏射线树脂组合物及改进该组合物的防干蚀刻性能的方法
173 CN01119680.7 高尔夫球杆头部用击打板的化学蚀刻方法
174 CN01111268.9 蚀刻穿孔性优良的Fe－Ni合金荫罩用的原材料
175 CN01116678.9 蚀刻穿孔性能优良的铁镍合金荫罩半成品及其制造方法
176 CN01129353.5 半导体金属蚀刻工艺的方法
177 CN99813592.5 蚀刻溶液,蚀刻制品和制造蚀刻制品的方法
178 CN99813593.3 蚀刻溶液,蚀刻制品和制造蚀刻制品的方法
179 CN01107503.1 印制线路板碱性蚀刻铜废液处理方法
180 CN99805595.6 得自纤维素粘合剂的快速蚀刻、热固性抗反射涂料
181 CN00121078.5 蚀刻式单层及积层片状电感的制造方法
182 CN01127244.9 金属彩色蚀刻画及其生产方法
183 CN00804533.X 光敏树脂组合物、使用光敏树脂组合物的感光性元件、蚀刻图形的制法及印刷线路板的制法
184 CN00122349.6 蚀刻栅网的生产工艺
185 CN01127541.3 金属蚀刻装饰板及其制造方法
186 CN01125660.5 金属蚀刻装饰条及其制造方法
187 CN01142051.0 蚀刻液组合物
188 CN01125466.1 蚀刻液及挠性配线板的制造方法
189 CN00809598.1 用于有机蚀刻的侧壁钝化的方法和装置
190 CN01144821.0 气体喷射器以及包含该喷射器的蚀刻装置
191 CN00809595.7 用于蚀刻碳掺杂有机硅酸盐玻璃的方法和装置
192 CN00809793.3 改善蚀刻率均匀性的技术
193 CN02106937.9 碳素薄膜的蚀刻方法和蚀刻设备
194 CN00813243.7 带监控蚀刻剂成份的高精度传感器的自动蚀刻剂再生系统
195 CN01111880.6 阶段式蚀刻方法
196 CN01110173.3 一种在蚀刻过程中非破坏性测量侧向蚀刻宽度的方法
197 CN01110183.0 一种晶片边缘的蚀刻机及其蚀刻方法
198 CN00122450.6 光刻蚀刻制作工艺
199 CN02108573.0 蚀刻方法以及蚀刻液的定量分析方法
200 CN01110530.5 可减少金属蚀刻残留物的形成导电结构层的方法
201 CN01110453.8 以光学方法测量温度并监控蚀刻率的方法
202 CN01110718.9 一种用于金属层蚀刻的轮廓控制方法
203 CN01110220.9 高高宽比开口的蚀刻方法
204 CN00812842.1 用于旋转蚀刻平面化的组合物与方法
205 CN02116014.7 含镍三氯化铁蚀刻废液的除镍方法
206 CN02112250.4 基于多个子光栅的平顶型蚀刻衍射光栅波分复用器件
207 CN02106574.8 蚀刻方法与蚀刻装置
208 CN02119271.5 采用湿蚀刻的电子部件的制造方法
209 CN02119111.5 构图铟锡氧化物的蚀刻剂和制造液晶显示装置的方法
210 CN00815311.6 在双重镶嵌方法中的低介电常数的阻蚀刻层
211 CN01228563.3 金属蚀刻装饰条相框
212 CN02214996.1 金属蚀刻板条装饰门
213 CN02242311.7 电路板蚀刻机输送装置
214 CN02241494.0 电路板蚀刻机输送装置
215 CN02242310.9 电路板蚀刻机输送装置
216 CN02265078.4 两点聚焦实现通带平坦化的蚀刻衍射光栅波分复用器件
217 CN02265236.1 蚀刻衍射光栅波分复用器
218 CN02287417.8 金属披覆板的电浆蚀刻进度监测结构
219 CN02252396.0 蚀刻屏框的改良
220 CN87211715 电解扫描文字图案蚀刻装置
221 CN87217198 深度电解标志蚀刻头
222 CN89201489.X 带金属蚀刻板的工艺瓷(漆)盘
223 CN89203822.5 全指标自动控制印刷线路板蚀刻机
224 CN90212683.0 激光蚀刻机
225 CN90204498.2 蚀刻成型的金属箔画板
226 CN90225082.5 漏膜式电解蚀刻机
227 CN93213086.0 自动控制凹模印辊电蚀刻机
228 CN95218539.3 蚀刻规版
229 CN95222423.2 膜分离技术再生蚀刻液及无排放废液的电解蚀刻机
230 CN96212261.0 垂直式蚀刻机的PC板传动装置
231 CN98205838.1 便携式金属蚀刻机
232 CN98225893.3 一种蚀刻深度传感器
233 CN98220971.1 金属电蚀刻机
234 CN97240518.6 手表底盖蚀刻安置板
235 CN97219075.9 生产核径迹膜的连续蚀刻装置
236 CN97236810.8 金属蚀刻版画
237 CN97228425.7 蚀刻机摆动机构
238 CN99235041.7 印章蚀刻机
239 CN00219688.3 金属无酸蚀刻机
240 CN99210638.9 金属蚀刻版画
241 CN00245700.8 PC板竖直蚀刻机的板体传动装置
242 CN00222967.6 蚀刻玻璃防盗汽车及汽车玻璃蚀刻用具
243 CN00264258.1 金属蚀刻工艺画
244 CN00235732.1 IC导线架电路软板的整卷成型料带蚀刻及电镀前定位打孔机构
245 CN00243161.0 金属电蚀刻机
246 CN00230828.2 一种电子蚀刻机
247 CN01221412.4 蚀刻机台中的晶片推升装置
248 CN01222344.1 用于蚀刻工艺过程的晶片保护装置
249 CN01215685.X 中性电解液蚀刻机
250 CN01232335.7 有机电致发光显示面板铟锡氧化物电极的电化学蚀刻平坦化装置
251 CN01267473.7 旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置
252 CN01268820.7 金属蚀刻地图
253 CN01270653.1 电路板蚀刻机
254 CN02147384.6 蚀刻方法
255 CN03133812.7 一种金属蚀刻地图的设计制作工艺
256 CN02127845.8 蚀刻剂及其在提高蚀
|
|
|
|
|