抛光剂、抛光液的工艺配方专利大全
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1 CN01807432.4 抛光剂和生产平面层的方法
2 CN01809394.9 抛光剂组合物
3 CN02800353.5 抛光剂及基片的抛光方法
4 CN96121008.7 抛光剂
5 CN85107373 一种快速抛光剂
6 CN92108497.8 溶胶型硅片抛光剂
7 CN93105636.5 一种活性抛光剂及其制备方法
8 CN93118984.5 固体抛光剂
9 CN97116064.3 含有酸-胺胶乳的水基抛光剂组合物
10CN97126031.1 抛光剂组合物
11CN98110778.8 纳米二氧化硅抛光剂及其制备方法
12CN98113547.1 白米抛光剂及其制备方法
13CN97107665.0 VCD光碟片抛光剂
14CN00100956.7 聚合物作为家具抛光剂的应用
15CN98807509.1 半导体基片用的抛光剂
16CN98809114.3 含有一种由硅酸抛光剂和氧化铝组成的抛光剂组合物的牙齿清洁剂
17CN99115749.4 一种化学抛光剂及其使用方法
18CN00114266.6 车用多功能一体化清洁抛光剂的制备及使用方法
19CN01141166.X 抛光剂组合物
20CN01141167.8 抛光剂组合物
21CN01141168.6 抛光剂组合物
22CN00120635.4 含氢氟酸的铝型材酸性抛光剂
23CN01801018.0 抛光剂及其制造方法以及抛光方法
24CN03127654.7 硅藻土磨料抛光剂的制备方法
25CN02151958.7 一种不锈钢制品的化学抛光剂及其工艺
26CN200310108609.2 水基地板抛光剂用乳胶
27CN200310108751.7 磷酸脂改性的地板抛光剂用乳胶
28CN200410017002.8 木质地板、家具护理用的抛光剂组合物
29CN200510035085.8 交联型环保汽车抛光剂的产业化生产
30CN200510108259.9 抛光剂及基片的抛光方法
31CN200610035936.3 抛光砖专用化学抛光剂
32CN200510034820.3 一种抛光剂
33CN200580031762.7 CMP抛光剂以及衬底的抛光方法
34CN200710092346.9 抛光剂
35CN200580032714.X CMP抛光剂以及衬底的抛光方法
36CN200710039894.5 一种低光泽抛光剂组合物及其制备方法
37CN200610066889.9 半导体晶片精密化学机械抛光剂
38CN02116759.1 超大规模集成电路多层铜布线化学机械全局平面化抛光液
39CN01812907.2 抛光液组合物
40CN02114147.9 铜化学－机械抛光工艺用抛光液
41CN02116761.3 超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
42CN95116303.5 金属表面抛光液
43CN95193129.6 不锈钢表面化学抛光液及化学抛光方法
44CN88107422.5 一种加氧化剂酸性硅溶胶抛光液的配制方法
45CN89104530.9 抛光液
46CN91104335.7 用于不锈钢表面化学抛光的抛光液和方法
47CN97106050.9 不锈钢抛光液
48CN99125836.3 用于化学机械平面加工的含过氧化物抛光液的稳定方法
49CN00117632.3 在半导体晶片化学机械抛光时输送抛光液的系统
50CN01122164.X 用于金属和金属氧化物的结构化处理的抛光液和方法
51CN99117409.7 铝型材抛光液无能耗简易回收法
52CN00133674.6 纳米级抛光液及其制备方法
53CN02132423.9 一种浮法抛光液膜厚度测量装置
54CN94230796.8 一种用于粮食加工的抛光液雾化装置
55CN99215345.X 抛光液内循环系统上水密封装置
56CN02131871.9 化学抛光液
57CN200310124640.5 抛光液组合物
58CN03114350.4 一种纳米级蓝宝石衬底的加工方法及其专用抛光液
59CN200410022936.0 一种水基纳米金刚石抛光液及其制造方法
60CN200410066674.8 硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
61CN200310105203.9 一种化学机械抛光液
62CN200410084490.4 硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用
63CN200410093370.0 高介电材料钛酸锶钡化学机械抛光用的纳米抛光液
64CN200510023377.X 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法
65CN200410075899.X 抛光液和抛光有色金属材料的方法
66CN200610001059.8 一种有机碱腐蚀介质的稀土抛光液
67CN200510071796.0 用于化学机械平坦化的多步抛光液
68CN200510026996.4 集成电路铜互连一步化学机械抛光工艺及相应纳米抛光液
69CN200480002648.7 可选择性阻隔金属的抛光液
70CN200410080080.2 钛镍合金电化学抛光液
71CN200610013976.8 用于大规模集成电路多层布线中钨插塞的抛光液
72CN200610013977.2 用于铌酸锂光学晶片研磨抛光的抛光液
73CN200610013978.7 用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液
74CN200610013979.1 用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液
75CN200610013980.4 用于硼酸锂铯晶体的化学机械无水抛光液及平整化方法
76CN200610014029.0 半导体锑化铟化学机械抛光液
77CN200610013981.9 蓝宝石衬底材料抛光液及其制备方法
78CN200610014297.2 硅单晶衬底材料抛光液及其制备方法
79CN200610014299.1 电子玻璃的纳米SiO<sub>2</sub>磨料抛光液
80CN200610014325.0 超大规模集成电路铝布线抛光液
81CN200610014296.8 用于磷酸氧钛钾晶体的化学机械抛光液
82CN200610047159.4 一种化学机械抛光单晶氧化镁基片用的抛光液
83CN200610014298.7 超大规模集成电路多层布线SiO<sub>2</sub>介质的纳米SiO<sub>2</sub>磨料抛光液
84CN200510027990.9 化学机械抛光液
85CN200510027988.1 化学机械抛光液及其用途
86CN200510035557.X 抛光液
87CN200610030551.8 金属化学机械抛光的抛光液原位批处理方法及所使用的装置
88CN200610086232.9 高精度复合抛光液及其生产方法、用途
89CN200610086233.3 高精度抛光液及其生产方法、用途
90CN200610141458.4 抛光液体
91CN200610139615.8 水性抛光液和化学机械抛光方法
92CN200510030024.2 水基金刚石抛光液及其制备方法
93CN200610087629.X 一种碱性硅晶片抛光液
94CN200510109406.4 电解抛光液和其平坦化金属层的方法
95CN200610105133.0 抛光液以及抛光Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体晶片的方法
96CN200710008374.8 阻挡层用抛光液
97CN200710019741.4 碱性计算机硬盘抛光液及其生产方法
98CN200710005150.1 多组分阻挡层抛光液
99CN200710051871.6 一种高纯度纳米金刚石抛光液及其制备方法
100 CN200710022290.X 微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法
101 CN200710099942.X H62黄铜抛光液及其制备方法
102 CN200710055788.6 抛光液自动滴液装置
103 CN200610026938.6 用于精细表面平整处理的抛光液及其使用方法
104 CN200610087601.6 一种用于锗晶片的抛光液及其制备方法
105 CN200610087602.0 一种用于砷化镓晶片的抛光液及其制备方法
106 CN200420094553.X 抛光液供给控制装置
107 CN02142015.7 抛光组合物
108 CN00816878.4 化学-机械抛光方法
109 CN02154315.1 磁盘基材的抛光组合物和使用该组合物的抛光方法
110 CN02127360.X 抛光组合物及使用它的抛光方法
111 CN02157402.2 抛光组合物
112 CN02159810.X 金属和金属/电介质结构的化学机械抛光用组合物
113 CN01809394.9 抛光剂组合物
114 CN01811268.4 金属CMP用的抛光组合物
115 CN01812907.2 抛光液组合物
116 CN01812364.3 用于CMP的含硅烷的抛光组合物
117 CN00819633.8 包含纤维和含金属共聚物的自抛光型海洋防污漆组合物
118 CN00817090.8 抛光或平滑化基体的方法
119 CN97101813.8 抛光组合物
120 CN87106089 石材研磨或抛光用组合物及其制造方法
121 CN92100825.2 打磨抛光的砂轮组合物
122 CN93102414.5 抛光和刨平表面用的组合物和方法
123 CN94193257.5 活性抛光组合物
124 CN94192249.9 改良的抛光组合物和抛光方法
125 CN97117913.1 用于抛光半导体基材上的金属层的磨料组合物及其用途
126 CN97116064.3 含有酸-胺胶乳的水基抛光剂组合物
127 CN97126036.2 抛光组合物
128 CN97126031.1 抛光剂组合物
129 CN96197567.9 改进的抛光浆料和其使用方法
130 CN97199945.7 用于化学机械抛光的多氧化剂浆料
131 CN99107174.3 边抛光组合物
132 CN99108657.0 抛光组合物
133 CN98109693.X 半导体或绝缘材料层的机械-化学新抛光方法
134 CN99111114.1 抛光组合物
135 CN00102240.7 铝或铝合金导电材料层的机械化学抛光方法
136 CN98809114.3 含有一种由硅酸抛光剂和氧化铝组成的抛光剂组合物的牙齿清洁剂
137 CN00118032.0 用于机械化学抛光低介电常数聚合物类绝缘材料层的组合物
138 CN98809580.7 包括钨侵蚀抑制剂的抛光组合物
139 CN99101890.7 抛光和刨平表面用的组合物和方法
140 CN99111902.9 铜基材料表层的机械化学抛光方法
141 CN99118604.4 抛光组合物
142 CN99120301.1 化学机械抛光中用于减少有图案金属凹陷的组合物和方法
143 CN99108532.9 抛光组合物和表面处理组合物
144 CN00128846.6 抛光组合物
145 CN00131713.X 抛光组合物
146 CN00131712.1 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
147 CN00130570.0 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
148 CN00109525.0 用于化学机械抛光的组合物
149 CN01104631.7 用于抛光磁记录盘基体的磨料组合物
150 CN01103041.0 抛光研磨用的研磨油组合物
151 CN01104764.X 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
152 CN01116934.6 抛光组合物
153 CN01103203.0 抛光组合物
154 CN01104762.3 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
155 CN01122298.0 抛光组合物及使用它的抛光方法
156 CN01141166.X 抛光剂组合物
157 CN01141167.8 抛光剂组合物
158 CN01141168.6 抛光剂组合物
159 CN00808137.9 在二氧化硅化学机械抛光过程中减少/消除划痕和缺陷的组合物和方法
160 CN00809453.5 用于钛的电解抛光的电解液组合物及其使用方法
161 CN01142936.4 抛光存储器硬盘用基片的抛光组合物及抛光方法
162 CN01800919.0 抛光组合物及用该抛光组合物抛光后的磁记录盘基片
163 CN01800964.6 磁盘基板抛光用组合物及其生产方法
164 CN02103380.3 抛光组合物及使用它的抛光方法
165 CN00809281.8 含硅烷改性研磨颗粒的化学机械抛光(CMP)组合物
166 CN00811608.3 含有含硅共聚物和纤维的自抛光性海洋防污漆组合物
167 CN00811638.5 化学机械抛光系统及其使用方法
168 CN00811639.3 含有阻化化合物的抛光系统及其使用方法
169 CN00813314.X 化学机械抛光后半导体表面的清洗溶液
170 CN02118389.9 含水涂料组合物和地板抛光组合物
171 CN02117756.2 用于存储器硬盘磁头表面抛光的抛光组合物及其抛光方法
172 CN01817877.4 抛光工具及制造所述工具的组合物
173 CN01821824.5 抛光垫及其使用方法
174 CN02804506.8 抛光组合物中有机硅表面活性剂的使用
175 CN03127205.3 抛光组合物
176 CN02810032.8 化学机械抛光组合物及其相关方法
177 CN03100995.6 抛光组合物的用途和抛光存储器硬盘的方法
178 CN03100997.2 抛光方法
179 CN200310124640.5 抛光液组合物
180 CN02811619.4 化学机械抛光装置用晶片定位环
181 CN03154955.1 用于金属的化学机械抛光（CMP）的浆料及其使用
182 CN200410007656.2 抛光组合物
183 CN02814368.X 添加剂组合物、含有该添加剂组合物的淤浆组合物及使用该淤浆组合物抛光物体的方法
184 CN200410034215.1 抛光组合物
185 CN02815444.4 用于金属布线的化学机械抛光的浆液组合物
186 CN02816212.9 包括二氧化硅涂覆铈土的抛光淤浆
187 CN200410043511.8 抛光组合物
188 CN200410043512.2 抛光组合物
189 CN02819416.0 抛光组合物
190 CN200410062868.0 抛光组合物
191 CN200410079743.9 用于半导体晶片的抛光组合物
192 CN200410055841.9 用于抛光半导体层的组合物
193 CN200410079102.3 抛光组合物
194 CN200310108609.2 水基地板抛光剂用乳胶
195 CN200410083441.9 抛光组合物
196 CN200310108751.7 磷酸脂改性的地板抛光剂用乳胶
197 CN200410092531.4 抛光组合物和抛光方法
198 CN03803796.3 金属基板化学-机械抛光方法
199 CN03804313.0 抛光组合物
200 CN200410096391.8 用于化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物和方法
201 CN200410097812.9 抛光组合物和抛光方法
202 CN03805084.6 抛光组合物和用于形成配线结构的方法
203 CN200410104677.6 用于铜的受控抛光的组合物和方法
204 CN200410082137.2 用于铜的低下压力抛光的组合物和方法
205 CN200410092968.8 用于抛光铜的组合物和方法
206 CN200410104484.0 抛光组合物和抛光方法
207 CN200510054230.7 化学机械抛光垫、其制造方法以及化学机械抛光方法
208 CN200510023377.X 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法
209 CN200510052407.X 化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物与方法
210 CN200510052880.8 抛光组合物和抛光方法
211 CN03816146.X 金属抛光组合物,使用组合物进行抛光的方法以及使用抛光方法来生产晶片的方法
212 CN200410017002.8 木质地板、家具护理用的抛光剂组合物
213 CN200510059249.0 抛光用组合物及抛光方法
214 CN200510059251.8 抛光用组合物及抛光方法
215 CN200510059252.2 抛光组合物及抛光方法
216 CN03817386.7 地板用水合树脂分散体以及使用这种水合树脂分散体的地板抛光组合物
217 CN200610033127.9 一种纳米氮化硅抛光组合物及其制备方法
218 CN200510138148.2 化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的多步方法
219 CN200410081677.9 抛光组合物和抛光方法
220 CN200510078812.9 用于控制半导体晶片中金属互连去除速率的抛光组合物
221 CN200380102127.4 用于抛光金属的组合物、金属层的抛光方法以及生产晶片的方法
222 CN200380102722.8 抛光组合物和清洗组合物
223 CN03825534.0 用于硅晶片二次抛光的淤浆组合物
224 CN200510082370.5 化学机械抛光组合物及有关的方法
225 CN200510082371.X 化学机械抛光组合物及有关的方法
226 CN200510071796.0 用于化学机械平坦化的多步抛光液
227 CN200380105924.8 抛光和/或清洁铜互连和/或薄膜的方法及所用的组合物
228 CN200380105929.0 抛光和/或清洁铜互连和/或薄膜的方法及所用组合物
229 CN200510088470.9 化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的组合物和方法
230 CN200380108506.4 用于铜膜平面化的钝化化学机械抛光组合物
231 CN200510096619.8 浆料组合物、制备浆料组合物的方法以及使用浆料组合物抛光物体的方法
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