1、微机控制离子自组装薄膜镀膜机系统设计
研制了微机控制的全自动离子自组装薄膜镀膜机，采用32位数据采集卡PCL733与PCL734来实现与微机的通信，采用Visual
Basic语言开发计算机驱动程序来实现对设备中电机和电磁阀的有效控制，设计了应用程序的操作界面，可实现离子自组装全自动镀膜的过程。该设备可解决手工操作带来的问题，例如提高了成膜的效率；全封闭的镀膜机能降低空气中灰尘的影响，并减少人为因素的影响，提高镀膜的质量；友好的操作界面可提供镀膜方案的存储，方便批量生产相同特性的镀件，提高重复性。镀制工件可以是平片状工件，也可是纤维状工件。可采用一种、两种或多种...........共95页
2、三靶磁溅式真空镀膜机电气控制系统研究
真空镀膜机是一种直流磁控反应溅射镀膜机，主要应用于太阳能真空管的制造过程。根据厂家工艺要求和技术参数，以PLC、触摸屏作为硬件开发平台，设计三靶磁溅式真空镀膜机的电气控制系统。工件旋转和靶旋转均采用模块化的直流电机驱动电路，通过PLC软件程序实现电枢降压软起动。采用分子泵替代油扩散泵，解决了镀膜生产中油扩散泵出现的返油现象，提高镀膜质量，降低了控制系统的功耗，节约电能90％以上。分子泵VVVF自适应控制的速度闭环控制建立于真空室真空度的基础上，从而有效解决了真空度稳定和陡降之间的矛盾。首次获得了与技术工艺参数
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3、真空镀膜机掺气源温度控制模块研究
以计算机全自动控制超大容积汽车灯具镀膜成套设备与镀膜工艺研究为工程背景,通过对镀膜机的控制任务和技术要求分析,应用计算机控制技术、电力电子技术、通信技术、计算机仿真技术和可靠性理论,对其子系统掺气源温度控制模块的设计作了论述.模块实时智能化控制双路掺气源温度在设定恒温,镀膜机工作时掺气源与真空室体间形成的压力将气体压入真空室体,室体中的气分子作为电介质协助完成镀膜工艺.该文详细论述了势如破竹气源温度控制
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4、真空镀膜机卷绕系统空间轴系平行度研究
内容如下：第一章简要介绍镀膜机以与它的发展现状；第二章讨论了一些影响镀膜机镀膜质量的一些关键因素和技术；第三章具体计算了卷绕系统中各辊轴的挠度和它们之间的平行度，并以此为根据优化了放膜展平辊的设计。第四章用有限元法对卷绕系统中的各辊轴进行分析。第五章利用光电测量原理提出了对平行度误差进行光电检测的可行性研究，并建立了控制软件系统的框架。研究的特点主要有以下几个方面：1)根据平行度误差计算结果，对放膜展平辊重新进行了不同于传统方法的设计，运用后实际效果明显。2)在对辊轴进行有限元分析的时候，建膜和分析分别在不同软件中
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5、多功能镀膜机研制与低维纳米功能材料制备
设计制造了多功能磁控溅射镀膜机。镀膜机集直流磁控溅射沉积、射频磁控溅射沉积、中频孪生磁控溅射沉积、阴极磁过滤弧等离子体沉积、蒸发于一体。既可以沉积金属、陶瓷、有机薄膜，还可以沉积超晶格、复合薄膜。Ⅱ.研究了反应射频磁控溅射制备氮化铜纳米薄膜的霍尔系数。在室温条件下，氮化铜薄膜的霍尔系数和霍尔电阻率随氮气流量的增加而增大，而霍尔迁移率和载流子浓度则减小。对同一条件下制备得到的氮化铜纳米薄膜而言，在温度从100
K到300 K的变化区间，薄膜的霍尔系数和霍尔电阻率降低，载流子浓度增加而霍尔迁移率基本保持不变。 Ⅲ.采用水 ...........共54页
6、高真空磁控溅射镀膜机温度控制系统研究
高真空磁控溅射镀膜机的温度控制在镀膜过程中起着十分重要的作用，温度控制的好坏直接影响到成膜质量。本文研究了专家PID算法的原理和实现方法，并将其应用到温度控制系统中；就常规PID算法和专家PID算法在温度控制上的应用开展了仿真比较；设计和实现了基于专家PID算法的高真空磁控溅射镀膜机温度控制系统，该系统主要由专家PID智能温控仪、晶闸管反并联模块、晶闸管控制电路、热电偶等组成；讨论了温度控制系统及其各单元的结构、工作原理和特性；温度控制试验结果表明，自行设计的温度控制系统的温升曲线能
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7、自动镀膜机智能控制系统研究
研究了一种自动镀膜机系统的智能控制方法，主要应用了自适应模糊控制方法对该自动镀膜机系统实施控制，控制的目的是使自动镀膜机系统能够等线速度运行。由于该系统是一个非线性系统，而且存在参数的缓慢时变以及一些不确定因素的影响，很难建立精确的数学模型，传统的控制策略很难达到控制要求，针对这样一个系统采用了智能控制的方法来实现精确控制。根据该自动镀膜机系统的结构建立了系统的动态方程，给出了详细的参数计算过程。针对该单输入单输出非线性不确定系统，利用模糊自适应逻辑系统具有的逼近性
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8、40kW中频脉冲溅射电源设计 |
利用移相软开关技术设计实现了20kHz中频脉冲磁控溅射电源。该电源采用移相控制方式，实现IGBT的零电压软开关，大大降低了电源的开关损耗，提高了电源的效率。同时，采用20kHz的开关频率，使电源具有较好的灭弧能力。利用输出过电流保护点设置的方法，使输出保护电流可调，并实现1μs时间迅速反应的过电流保护，在电源自动排除故障后，无需电源重启动，能迅速恢复正常工作。设计的多级保护功能使电源保护可靠、完善。在电源设计时，尽量考虑到EMC设计与电源的可靠性设计，增强电源的稳定性，提高电源
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9、双路可控电源驱动电路设计
介绍了国内外几种电镀电源，并阐述了国内外电镀电源的发展状况；其次对电镀用电源的基本要求、分类、工作原理及其特点进行了较为全面的概述；详细介绍了该双路可控电源驱动电路的主要性能指标、功能描述。针对电镀电源的控制系统，设计了由PIC16F877单片机为控制核心所组成的电源控制系统，实现了对电镀电源的自动控制。此系统能够实现控制信号的传递，产生正确的输出，并能够产生占空比、幅值、频率独立可调的双路可控电源驱动电路。此驱动电路能够提高镀件表面质量，并且结构简单，可靠性高。通过PIC的硬件系统设计、PIC的软件系统设计，最后说
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10、以陰極電弧電漿法於高速鋼SKH9被覆TiCrN鍍膜機械與磨潤性能之探討
使用陰極電弧電漿法，在不同真空度下以鈦與鉻為靶材，高速鋼為基材，於高速鋼基材上被覆氮化鉻(CrN)、氮化鈦(TiN)與氮化鈦鉻(TiCrN)鍍膜，並使用自行研製機電控制式往復磨耗試驗機以
ball-on-block方式探討在不同製程參數被覆鍍膜對表面結構及機械性質之影響，並以SEM與 EDS觀察表面型態及分析鍍膜成份。結果發現，鍍膜表面粗糙度以編號
C4 (wt.%:Ti 60.48,Cr 16.59,N 22.93)最低，鍍膜硬度以編號 A4 (wt.%:Ti 33.14,Cr
30.96,N 35.90)時可得到最佳硬度，附著力方面以編號 A4 (wt.%:Ti 33.14,Cr 30.96,N
35.90)可得到最佳的附著力，摩擦係數以編號 A3 (wt.%:Ti 7.19,Cr 51.59,N 41.22)時為最低，磨耗率以編號
A3 (wt.%:Ti 7.19,Cr 51.59,N 41.22)及 A4 (wt.%:Ti33 ...........共70页
11、TPM在真空镀膜生产中的应用
简要介绍了 TPM 的理论及其发展历程；在对公司镀膜生产线上存 在的问题进行了分析、研究的基础上，论证了 TPM 应用项目导入的必要性
和可行性；导入和实施 TPM 项目的目的是，通过各种组织活动来持续改进，不断消除生产过程中的浪费，从而提升公司运营效率，降低成本。重点是总结
TPM 应用项目在公司镀膜生产线中的实施， 第一部分分析了作为TPM保障支柱的公司培训体系的现状，通过对培训流 程和责任人的调整，有效控制了培训的流程，提高了培
12、磁约束磁控溅射源的关键技术研究
基于磁镜原理设计出了一种新型的磁控溅射源——磁约束磁控溅射源。磁镜是在空间形成了一个两端强中间弱的磁场,它将运动着的电子和离子约束在中间磁场较弱的区域。本装置将磁铁沿水平方向分置在靶材两侧,在靶材上方形成磁约束磁场,等离子体被约束在靶面的上方区域,在电场的作用下,实现离子对靶面的大范围溅射。通过对已有磁约束磁控溅射装置的实验,等离子体的区域有所扩展,靶材利用率和溅射率得到了一定的提高,但是实验过程中发现有拉弧现象。为了解决拉弧问题,并进一步提高靶材利用率和溅射率,本文在原有磁约束磁控溅射装置的基础上,设计出了一种新型结构的磁控溅射装置,主
13、高精度卷绕真空镀膜设备张力控制技术研究
张力控制是镀膜、IC制造、印刷、纤维缠绕等工业设备中具有共性的基础技术之一。随着现代卷绕设备向高速、高精度方向发展，张力控制技术极其重要。由于大型机电张力设备结构复杂、影响因素众多，在不同工况下系统参数存在着较强的耦合性、非线性、时变性和不确定性；在基础理论、检测技术和控制策略等方面都还有许多问题尚需解决，因此，机电系统张力控制问题是摆在工程技术人员面前急需解决的重大研究课题之一。
真空镀膜设备主要用于在PET、OPP、BOPP等塑料薄膜上连续蒸镀单面金属膜，该金属膜可用于生产电容金属化膜和包装膜，在电子、包
14、离子束辅助沉积IAD真空镀膜技术研究
在红外光学系统中，绝大多数红外光学元件必须镀制减反射膜来降低表面反射损失，高性能的红外减反射膜是红外光学系统的一个关键部分。同时，由于使用环境恶劣，红外光学元件通常除了必须具有较高的光学性能外，还必须具有较好的耐环境能力。
在红外光谱区中经常使用高折射率基片，比如锗（n=4.0）等，由于光线在这些材料表面上的反射损耗特别严重，如果不镀减反射膜，红外光学元件是不能使用的（比如锗片如果不镀膜，其在8～12μm内只有46％的透过率）。红外锗晶体光学零件在8～12μm减反射膜的膜层强度差是当前国内外薄膜光学亟待解决的一个难题，这是由于在
15、双H桥中频磁控溅射电源研究
介绍主电路,主要介绍了主电路中的两次逆变,其中逆变电路采用最新的逆变思想(逆变电路串联——双H桥)和开关器件——双绝缘栅型双极晶体管IGBT。并详细阐述了高频变压器的设计与制作方式。论述控制电路,由于提高逆变电源的频率是减小逆变电源体积、消除噪声的关键性问题,先介绍了制约逆变器电源高频化的主要因素——电力开关器件的工作状态,阐述了软开关技术的起因和分类,详细地介绍了软开关技术的发展历程和在各个阶段的典型代表电路拓扑结构,指出了他们的优缺点。在分析了限制逆变电源高频化因素的基础上,综合了
16、真空镀膜机用磁性液体真空密封装置设计及实验研究
对用于真空镀膜机上的传动控制轴密封装置进行了设计，替代了原有的焊接金属波纹管密封。（１）设计了极靴与永久磁铁的结构，探讨了相关零部件在设计、加工、装配过程中遇到的问题，并给出了解决办法。最后还对密封装置的设计方案进行了可行性分析。（２）根据磁性液体密封装置的实际情况，从电磁场基本理论出发，用磁矢量位法表述了磁性液体密封装置磁场一般的边界条件。根据所推导的边界条件，使用ＡＮＳＹＳ有限元分析软件，对本文设计的磁性液体密封装置进行计算，得出了磁性液体密封装置的磁场分布。（３）对所设计的磁性液体密封装置进行了真空密封
17、真空镀膜设备卷绕系统张力控制技术研究
卷绕张力控制技术是真空镀膜机中的关键技术，卷绕张力控制的精度、稳定性直接影响真空镀膜机对原料膜的适应能力和产品的质量。此次设计的目标是通过对锌铝复合超薄电容膜设备的研制，对高速、低张力等极端情况下张力控制的分析研究，找到一套适合的张力控制模式，设计出一套用于高档电容金属化膜生产的卷绕张力控制系统。本次真空镀膜机卷绕系统控制方案：放卷和收卷均采用全自动闭环式直接张力控制方式及主辊速度控制模式，在控制中采用ＰＩＤ调节。卷绕系统张力控制实现的方式：采用ＰＬＣ加开放式现场总线ＣＣ．ＬＩＮＫ的方式
18、塑料瓶内壁非晶碳镀膜机
19、蒸发磁控真空镀膜机
20、制备泡沫导电膜卷绕式真空镀膜机
21、水平式薄膜镀膜机
22、分立双室离子镀膜机
23、用于真空镀膜工艺光束共蒸发专用装置
24、真空镀膜轴向运动控制装置
25、真空镀膜机循环装片装置
26、钛铝涂层用多弧离子镀膜机
27、用于有机电致发光镀膜机坩锅式蒸发源
28、具有自动识别功能有机发光镀膜机基片小挡板
29、锌铝真空蒸发镀膜机
30、平面离子源增强沉积镀膜机
31、用于有机电致发光镀膜机坩锅式蒸发源
32、具有自动识别功能有机发光镀膜机基片小挡板
33、自动镀膜多弧离子镀膜机
34、锌铝真空蒸发镀膜机
35、双室真空镀膜装置
36、多功能卷绕镀膜机
37、一种用于热蒸发型真空镀膜设备热蒸发源
38、纳米离子低温镀制金刚石膜镀膜机
39、有定向与自控制功能真空镀膜机
40、一种卷绕式铝-锌铝真空镀膜机
41、隧道式超真空镀膜机
42、真空镀膜机中修正挡板自动切换装置
43、一种配置气体离子源真空离子镀膜机
44、溅射式镀膜机用靶材结构
45、有定向与自控制功能真空镀膜机
46、一种卷绕式铝-锌铝真空镀膜机
47、一种适应不同样品镀膜机工件架
48、加有射频等离子体聚合蒸发镀膜机
49、立式双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机
50、真空离子镀膜机
51、隧道式超真空镀膜机
52、一种真空镀膜机用加热罐
53、真空镀膜机抽气系统
54、双室真空镀膜机
55、真空镀膜机用多路阀
56、真空镀膜机加热装置
57、高效式真空镀膜旋转支架
58、内壁镀膜介电管真空镀膜设备
59、镀膜机真空反应室
60、高真空蒸发双面金属化镀膜机
61、用真空镀膜机制作镀膜装饰玻璃方法
62、带有可转动磁控管大面积组件镀膜机
63、在陶瓷釉面砖上制备纳米薄膜方法与纳米薄膜镀膜机
64、卧式电子束蒸发式真空镀膜机
65、内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机
66、一种新型真空镀膜机
67、真空镀膜机用成型镀膜靶材
68、玻璃镀膜机
69、一种用于真空镀膜领域传动装置
70、七彩变色玻璃真空镀膜机
71、一种具有在线清洗功能阳极装置与设有该装置镀膜机
72、转动工件实时测温装置与使用该装置真空镀膜系统
73、纳米薄膜镀膜机
74、一种真空镀膜系统
75、一种积木式多用途真空镀膜机
76、一种真空镀膜水钻
77、一种真空镀膜系统
78、磁控溅射卷绕镀膜机
79、加快镀膜机真空室达到高空度方法
80、镀膜用转盘与镀膜机
81、一种液体镀膜工艺与离心镀膜机
82、高速卷绕多层电容薄膜镀膜机与其工艺流程
83、镀膜用基片夹具镀膜用转盘与镀膜机
84、磁控溅射镀膜机永磁枪靶装置
85、一种三靶磁控溅射镀膜机
86、一种设有防漏装置真空镀膜机
87、真空镀膜机防漏装置
88、一种卷绕镀膜机
89、一种连续真空镀膜装置
90、高真空卷式镀膜机构
91、金属板带真空镀膜设备
92、磁控溅射卷绕镀膜机
93、磁控溅射镀膜机永磁枪靶装置
94、一种真空立式镀膜机工件转架
95、真空镀膜机多级行星式工件架
96、液体镀膜工艺用离心镀膜机
97、高速卷绕多层电容薄膜镀膜机
98、真空桶式镀膜机
99、电热膜镀膜机
100、一种用于光学辅助镀膜机中离子源阳极
101、超大型等离子真空镀膜装置
102、改进等离子真空镀膜装置
103、一种玻璃真空镀膜工件架
104、金属内管双通式真空镀膜集热管
105、真空内镀膜机与其使用方法
106、一种用于颗粒表面改性等离子镀膜装置
107、一种真空多弧离子镀膜机智能一体化控制器
108、一种镀膜机转动支架
109、一种新型镀膜机
110、真空镀膜箱
111、真空镀膜用“U”形真空室
112、真空镀膜用自降温传动轴
113、真空镀膜机镀件放置网框
114、镀膜装置
115、管道内表面清洗和镀膜技术与装置
116、倾斜沉积镀膜装置
117、一种高温加热真空蒸发镀膜装置
118、多工位轴瓦磁控溅射镀膜装置
119、实现超高真空半导体外延片解理和腔面多层镀膜系统
120、一种溅射镀膜装置和方法
121、管状工件内面镀膜方法
122、复合式镀膜装置与方法
123、散热模块表面镀膜方法与镀膜散热模块
124、一种真空镀膜成图方法专用设备与制品
125、形成金属玻璃镀膜靶材与该靶材形成复合材料
126、一种铝加厚金属化电容器用薄膜真空蒸发镀膜机
127、传动机构表面镀膜方法
128、表面氮化铬镀膜方法
129、真空磁控镀膜室中遮挡装置
130、镀膜用旋转溅射阴极装置
131、一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置
132、镀膜支架
133、镀膜装置
134、光学镀膜装置
135、镀膜装置
136、镀膜设备
137、遮光元件与其镀膜方法
138、镀膜装置
139、镀膜治具镀膜装置与镀膜方法
140、镀膜装置
141、镀膜工件承载装置与镀膜方法
142、光学镀膜装置
143、一种镀膜机转架
144、一种光学镀膜机
145、镀膜机快卸式喷银口挡板结构
146、镀膜机六镀头式电极结构
147、镀膜机防屑型抽真空口结构
148、镀膜机喷银口挡板关闭时间精确控制电路
149、倾斜沉积镀膜装置
150、一种固定式屏蔽溅镀镀膜机
151、一种铝加厚金属化电容器用薄膜真空蒸发镀膜机
152、可调沉积速率真空镀膜机挡板
153、在带状纤维织物上磁控溅射纳米银卷绕镀膜机
154、一种真空离子镀膜机
155、真空离子镀膜机挂杆悬挂装置
156、真空离子镀膜机
157、真空离子镀膜机自转机构
158、具有真空蒸镀膜生物降解性树脂容器和真空蒸镀膜形成方法
159、网处理方法处理槽连续电解电镀装置与带有电镀膜塑料膜制造方法
160、用于在金属带上沉积合金镀膜工业蒸汽发生器
161、镀膜设备框架式真空室
162、镀膜玻璃除膜机
163、一种钢领真空离子镀膜制备方法
164、真空离子溅射镀膜在IML工艺中应用方法
165、一种真空离子镀膜方法
166、一种模块化太阳能选择性涂层连续镀膜设备
167、镀膜板与镀膜板制备方法
168、一种导电玻璃在线镀膜方法与在线镀膜装置
169、一种导电玻璃在线镀膜方法与在线镀膜装置
170、一种平板显示材料多功能镀膜生产线
171、真空镀膜装置与镀膜方法
172、脉冲加热多匣式化学气相沉积p-i-n镀膜装置
173、镀膜附着力测量方法与测量装置
174、高透可钢化低辐射镀膜玻璃与其制造方法
175、太阳能选择性吸收膜连续卷绕镀膜装置
176、金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置
177、遮罩组件以与镀膜机台
178、多功能磁控溅射镀膜装置
179、卷绕镀膜前处理工艺与装置
180、真空镀膜用处理装置
181、彩色图案镀膜工艺
182、一种用于半导体激光器腔面镀膜装置和方法
183、一种连续式真空镀膜方法与其专用设备
184、用真空镀膜机制作金色紫色镜子方法
185、用于真空镀膜水平方向公自转机构
186、一体化超声喷雾热解大面积宽温区镀膜装置
187、弯钢化玻璃外弧面镀膜方法与其制备低辐射镀膜玻璃
188、镀膜玻璃与其制造方法
189、钒基多元镀膜液和复合薄膜与其制备方法和应用
190、镀膜原料收容装置
191、镀膜装置
192、深孔内壁电弧离子镀膜方法
193、车灯镀膜组合工艺
194、制备铬镀液方法和形成镀膜方法
195、大型复杂曲面制件磁控溅射镀膜机
196、三靶多支太阳能集热管镀膜机
197、一种带有补偿斜靶真空磁控溅射镀膜机
198、多功能磁控溅射连续镀膜机
199、新型镀膜机工转结构
200、一种光学镀膜机超净台
201、一种真空内镀膜机
202、高速高真空在线分切同步多收卷卷绕镀膜机
203、双冷却镀膜辊悬浮真空连续卷绕镀膜机
204、一种真空镀膜机滚筒静电装置
205、一种真空镀膜机蒸发器
206、一种柔性基材卷绕镀膜机冷鼓系统
207、带材镀膜机
208、高效太阳能集热管镀膜机
209、镀膜机电磁加热器
210、太阳能电池镀膜机石墨板挂钩
211、三室两锁太阳能集热管镀膜机
212、新型多用途镀膜机转架
213、一种塑料装饰品真空镀膜机
214、一种光纤端面镀膜方法
215、太阳能集热板条阳极镀膜生产工艺
216、一种提高低辐射镀膜玻璃生产效率方法
217、自动太阳能玻璃镀膜设备
218、超声波样品台以与用其进行粉体磁控溅射镀膜方法
219、二氧化钒薄膜镀膜液和薄膜制备方法与应用
220、一种镀膜玻璃生产方法和生产设备
221、滚筒式样品台以与用其进行粉体颗粒磁控溅射镀膜方法
222、蒸发镀膜设备
223、一种树脂镜片有机玻璃镜片表面超硬涂层镀膜方法
224、一种提高锡基低辐射镀膜玻璃生产效率方法
225、镀膜盖板与采用该镀膜盖板手机
226、光学镀膜测量系统反射式光路装置
227、卷绕式真空镀膜设备
228、适用于槽式太阳能热发电集热管内管与其镀膜方法
229、电场约束等离子体线性反应溅射镀膜阴极装置
230、快换式硅片镀膜对称挂钩组件与其安装方法
231、磁控溅射镀膜阴极装置
232、用于半导体太阳能镀膜工艺腔室
233、镀膜玻璃薄膜缺陷在线检测方法与装置
234、电容触摸屏镀膜生产工艺
235、真空镀膜机扩散泵循环冷却水系统
236、一种高稳定性汽车镀膜玻璃膜系
237、一种硬质合金刀具镀膜方法与刀具
238、一种双银镀膜玻璃与其制造方法
239、提高半导体激光器温度稳定性腔面镀膜方法
240、一种连续垂直热蒸发金属镀膜方法
241、直线型金属镀膜蒸发源连续输送镀膜料装置
242、一种用于刚性基底单面镀膜方法与装置
243、卧式真空镀膜机自动装卸片机构
244、一种卧式高温真空镀膜生产线
245、一种在多弧离子镀膜机上控制获得合金薄膜方法与其比例调节器
246、一种纱线连续金属镀膜方法与装置
247、太阳能集热管外玻璃管内壁连续镀膜装置与其镀膜工艺
248、一种镀膜机用镀膜夹具
249、柱状靶等离子镀膜机
250、有机玻璃真空镀膜机
251、真空镀膜机移动靶装置
252、多弧型离子镀膜机
253、真空镀膜设备中速抽式真空系统
254、多功能离子镀膜机
255、一种真空镀膜机
256、电容器用高压金属化聚酯膜镀膜机
257、双端磁控溅射离子镀膜机
258、多蒸发离化源离子镀膜机
259、单室固定靶磁控溅射幕墙玻璃镀膜机
260、多功能真空镀膜装置
261、金属膜氧化膜电阻高速高质镀膜机
262、旋转磁控柱状多弧源-平面磁控溅射源离子镀膜机
263、多弧型离子镀膜机
264、一种改进真空镀膜机收卷装置
265、一种真空镀膜机收卷装置
266、旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机
267、高温立式双端离子镀膜机
268、旋转磁控柱状弧源─平面弧源多弧离子镀膜机
269、蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机
270、一种多用途真空镀膜机
271、真空溅射镀膜机
272、平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机
273、金属化木制品与专用高真空蒸发镀膜机
274、卷绕镀膜机同步机构
275、轴瓦减摩层真空镀膜机
276、一种柱状磁控溅射源蚌形双室真空镀膜机
277、多用途蚌形双室离子镀膜机
278、柔性卷绕镀膜机
279、等离子体型阴极弧源一磁控溅射镀膜机
280、制备金属和陶瓷复合膜真空离子镀膜机
281、真空镀膜内反射式太阳能管
282、离子束溅射镀膜机
283、真空镀膜机
284、真空镀膜装置
285、沉积类金刚石薄膜镀膜机
286、多靶磁控溅射卷绕镀膜机
287、磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机
288、真空镀膜中电阻加热式蒸发舟活动电极
289、泡沫镍磁控溅射卷绕镀膜机
真空镀膜机文献资料
290、特种长光栅尺高真空镀膜机的研制
291、RIBLL大面积真空镀膜装置
292、箱式真空镀膜机电气控制系统设计
293、新型多弧离子镀膜机自动控制系统
294、新型卧式离子辅助电子束蒸发真空镀膜机
295、用PLC实现的磁溅式三靶真空镀膜机控制系统
296、MM—1000多靶反应磁控溅射镀膜机的研制
297、真空镀膜机的自动化控制
298、PLC在多弧离子镀膜机系统中的应用研究
299、真空镀膜机控制系统的改选
300、真空溅射镀膜机继电器-接触器控制系统的设计与研究
301、自动镀膜机系统的间接自适应模糊控制
302、镀膜机与其计数装置的分析设计
303、低功耗磁溅式真空镀膜机自动控制系统
304、多功能镀膜机的研制
305、非晶金刚石离子镀膜机自动化控制系统的设计
306、基于CAN总线的卷绕式镀膜机蒸镀控制系统
307、基于PLC的真空溅射镀膜机控制系统设计
308、晶闸管可控整流对卷绕式镀膜机张力控制的影响
309、宽幅薄膜高真空卷绕蒸发式镀膜机的研究与设计
310、UPB1张力传感器在镀膜机上的应用
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