1、无机研磨剂废液的再生处理装置
2、化学机械研磨用研磨剂及基板的研磨法
3、化学机械研磨用研磨剂及研磨方法
4、含肽半导体用研磨剂
5、化学机械抛光用研磨剂
6、超精研磨剂及其制备工艺
7、复合研磨剂及制备该复合研磨剂的组合物及方法
8、牙粉中使用的流体研磨剂悬浮液
9、研磨剂\基片的研磨法和半导体装置的制造方法
10、研磨剂\研磨剂的制造方法以及研磨方法
11、用来研磨晶片材料的化学-机械研磨机，以及装在该机器上的研磨剂输送设备
12、氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法
13、氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法
14、研磨剂用组合物及其调制方法
15、半导体装置的研磨剂和用研磨剂的半导体装置的制造方法
16、半导体用研磨剂\该研磨剂的制造方法和研磨方法
17、CMP研磨剂及基板的研磨方法
18、半导体集成电路用绝缘膜研磨剂组合物及半导体集成电路的制造方法
19、研磨剂组合物\其制备方法及研磨方法
20、分散稳定性良好的研磨剂浆体及基板的制造方法
21、半导体芯片化学机械研磨剂及其配制方法
22、化学机械研磨剂组合及其化学机械研磨方法
23、一种用稻壳灰制作牙膏或牙粉研磨剂的方法及用途
24、化学机械研磨用研磨剂及基板的研磨法
25、CMP研磨剂以及研磨方法
26、混合研磨剂抛光组合物及其使用方法
27、用于化学机械抛光的二氧化铈研磨剂
28、研磨剂及研磨方法
29、半导体平坦化用研磨剂
30、铈盐\其制造方法\氧化铈以及铈系研磨剂
31、核 壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法
32、研磨用磨料\研磨剂\研磨液\研磨液的制造方法\研磨方法以及半导体元件的制造方法
33、用于钨和钛的化学机械平坦化的研磨剂和组合物
34、研磨剂以及研磨方法
35、CMP研磨剂以及衬底的研磨方法
36、研磨剂制造方法\其制造的研磨剂和硅晶片制造方法
37、陶瓷研磨液
38、研磨剂\基片的研磨法和半导体装置的制造方法
39、一种监控CMP研磨剂的腐蚀抑制剂的方法
40、化学机械研磨用研磨剂及基板的研磨法
41、氧化铈研磨剂以及包含该研磨剂的浆料
42、半导体集成电路装置用研磨剂\研磨方法及半导体集成电路装置的制造方法
43、半导体集成电路装置用研磨剂\研磨方法及半导体集成电路装置的制造方法
44、半导体用研磨剂
45、研磨剂及半导体集成电路装置的制造方法
46、用于抛光高阶梯高度氧化层的自动停止研磨剂组合物
47、研磨剂组合物和研磨方法
48、研磨剂\被研磨面的研磨方法及半导体集成电路装置的制造方法
49、无研磨剂的抛光系统
50、CMP用研磨液及研磨方法
51、铈类研磨材料
52、研磨材料及其制备方法
53、氧化硅用研磨剂\添加液以及研磨方法
54、铝膜研磨用研磨液及使用其的铝膜研磨方法
55、不含磨料的研磨液及CMP研磨方法
56、CMP研磨剂及基板的研磨方法
57、陶瓷研磨剂及其制备方法
58、一种合金研磨材料
59、轴承降振化学研磨剂及其使用方法
60、一种用于高硬度高精度的金属零件内孔外圆研磨材料
61、一种磁力研磨磨料及其制备方法
62、具有研磨粒子的抛光材料及其制造方法
63、彩色滤光片研磨液组合物
64、金属用研磨液
65、铈系研磨剂的再生方法
66、研磨液及研磨方法
67、CMP研磨剂及基板的研磨方法
68、金属钽及其合金专用研磨液及其制备方法
69、磁性研磨复合粒子及其研磨方法
70、金属用研磨液以及研磨方法
71、金属用研磨液以及研磨方法
72、研磨液及研磨方法
73、研磨液及研磨方法
74、复合研磨材料及其制备方法
75、玻璃基板用研磨液组合物
76、铈系研磨材料及其原料
77、氧化铈类研磨材料
78、研磨液
79、化学机械研磨浆液与化学机械平坦化方法
80、一种以铝矾土为原料制备白色研磨介质的方法
81、研磨液组合物
82、水性金刚石研磨液及其制备方法和用途
83、研磨用组合物和研磨方法
84、研磨用组合物和研磨方法
85、研磨用组合物和研磨方法
86、研磨用组合物和研磨方法
87、绝缘膜研磨剂组合物及半导体集成电路的制造方法
88、铈系研磨材料
89、使用研磨剂的粉末颗粒的制备方法
90、CMP用研磨液及研磨方法
91、研磨剂组合物及研磨方法
92、CMP用研磨液
93、CMP用研磨液及研磨方法
94、从研磨剂浆料废液中回收研磨剂的方法及装置
95、CMP研磨剂\CMP研磨剂用添加液以及使用了这些的基板的研磨方法
96、研磨液组合物
97、精密测量旋转箱用研磨剂
98、一种镜面研磨料及其制备法
99、研磨液组合物
100、研磨液
101、CMP研磨剂以及衬底的研磨方法
102、用于喷砂处理的研磨剂和使用该研磨剂的喷砂处理方法
103、氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法
104、金属用研磨液及研磨方法
105、一种研磨颗粒及其制造方法和化学机械研磨液的制造方法
106、金属用研磨液以及使用该研磨液的研磨方法
107、液体研磨剂及其制备方法
108、牙科陶瓷材料研磨剂
109、金属用研磨液以及研磨方法
110、硅膜用CMP研磨液
111、金属膜用研磨液及研磨方法
112、研磨组合物
113、微粉化有机紫外线吸收剂的研磨助剂
114、研磨体系的配制方法
115、白刚玉超精细研磨微粉的生产方法
116、一种氧化锆研磨液的生产工艺
117、绿碳化硅研磨抛光微粉的生产方法
118、一种化学机械研磨废液的处理方法
119、氧化硅用研磨剂\添加液以及研磨方法
120、用于钢球研磨的乳化型精研液配制使用方法
121、高研磨性能的涂覆的磨料
122、研磨粒子粉体
123、CMP用研磨液以及研磨方法
124、有研磨作用的熔合颗粒
125、CMP用研磨液以及使用该研磨液的研磨方法
126、磁盘基板用研磨液组合物
127、高精密非水基纳米级金刚石研磨液\制备方法及用途
128、一种高硬度微米研磨液及其配制方法
129、铈系研磨剂
130、使用研磨剂的粉末颗粒的制备方法
131、高精度PCB板专用研磨材料及制造方法
132、一种合金研磨材料
133、CMP研磨液和研磨方法
134、金刚石微粉研磨液循环硬磨剂及其制备和使用方法
135、一种金相试样研磨抛光机
136、用于硬脆性材料超精研磨的水性研磨液及其使用方法
137、水性研磨清洗液
138、混合型研磨材料的生产方法
139、永悬浮钻石研磨液
140、LED衬底加工用研磨液及其制备方法
141、金属膜用研磨液及研磨方法
142、一种非金属研磨悬浮油及其制备方法
143、一种氧化锆研磨液的制备方法
144、一种非诺贝特研磨悬浮液及其制备方法和应用
145、一种固着磨料研磨盘的磨料
146、悬浮液\研磨液套剂\研磨液以及使用它们的基板的研磨方法
147、研磨剂\浓缩一液式研磨剂\二液式研磨剂\基板研磨法
148、氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法
149、聚天冬氨酸盐作为研磨剂的用途
150、研磨剂\基片的研磨法和半导体装置的制造方法
151、回收化学和机械平整化所用水与浆料研磨剂的方法和设备
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