1、新型柠檬酸盐镀铜工艺
研究出合适的无氰镀铜工艺来取代氰化镀铜工艺一直是广大电镀工作者的目标。氰化镀铜工艺不光能获得良好的镀层,而且氰化物有除油、清洗的作用,更重要的是氰化物有极强的络合能力,能够确保在任何基体上都能获得结合力很好的底层铜镀层。而其他的各种无氰镀铜工艺都不能彻底解决各种基体上的结合力的问题,再加上各种工艺自身存在缺陷,因此一直未能够完全取代氰化镀铜工艺。我们经过长时间的探索与研究,开发出一种新型柠檬酸盐镀铜工艺。该工艺以柠檬酸做为主络合剂,再配以合适的辅助络合剂,能有效的降低铜的平衡电位,使各种被镀基体在浸入镀液时都不会产生置换铜层..........共44页
2、无氰碱性镀铜工艺研究
研究了EDTA镀铜工艺的镀液和镀层性能,优选出了5个镀液配方,通过与氰化体系和柠檬酸-酒石酸体系镀铜工艺比较,发现该工艺具有良好的综合工艺性能,能够满足生产实际。研究顺应了镀铜工艺的发展趋势,为当今电镀行业的“清洁生产”给出了更广阔的选择范围。
首先,本文叙述了电镀工艺的发展历史,强调了镀铜工艺在电镀行业的重要地位。通过对现有镀铜工艺的介绍,指出了镀铜工艺将一直保持其在电镀工业中的重要地位,并将不断的发展下去。但是,氰化物的剧毒性,决定了氰化镀铜工艺终究将被淘汰,找到能满足生产实际的、可替代的无氰镀铜工艺是当今镀铜工艺
..........共75页
3、微细凹槽镀铜研究
微细凹槽内无空洞和缝隙缺陷镀铜是集成电路芯片铜布线制造工艺技术发展中需解决的一个关键问题。分析了微细凹槽镀铜产生空洞和缝隙的原因,分别对微细凹槽进行化学镀和电镀研究,并对镀层进行显微分析和X衍射分析,分析结果及实验内容和结论如下:
微细凹槽镀铜填充效果与凹槽镀层均匀度有关。均匀的凹槽镀层有利于提高凹槽镀层填充效果。化学镀中,首先进行平面化学镀铜,考察镀件镀前处理过程以及化学镀各条件因素对镀铜效果的影响。获得了平面化学镀镀铜适宜的工艺条件:CuSO_4;10g/L,EDTA·2Na:40g/L,甲醛:10ml/L,αα’-联吡啶:0.1g/L,亚铁氰化钾:10mg/L,V_2O_5:2mg/L,pH:12~12.5,T:40~50℃。
凹槽镀层的覆盖性与镀件的镀前处理有关..........共64页
4、超声波纳米Al_2O_3粉末化学镀铜的研究
通过在纳米Al_2O_3颗粒表面化学镀铜的手段,以获得包覆均匀的Cu/Al_2O_3复合粉体,制备复合性能良好,金属含量可控的金属—陶瓷复合材料为目标。其思路为:首先制备纳米的金属包覆型陶瓷复合粉体。这样,在随后制备块材的烧结过程中,由于复合粉体复合充分,相容性提高,结合力高,另外金属表面层可抑制纳米陶瓷粉体的融合长大,使粉体在烧结后保持纳米尺寸,从而发挥纳米颗粒的作用;同时通过引入均匀分布的韧性金属相,进一步改善陶瓷的脆性。因此,本文的研究内容设定为用化学镀的方法在纳米级的Al_2O_3陶瓷粉体上包覆金属铜,制备纳米的..........共92页
5、CO_2气体保护焊焊丝化学镀铜工艺分析及研究
研究了CO_2气体保护焊焊丝化学镀铜液的各成分 CuSO_4.5H_2O.H_2SO_4和 FeSO_4.7H_2O的浓度对镀层质量的影响,
通过对比镀铜焊丝镀层的外观色泽,结合强度和耐蚀性得出镀 铜液的最佳基本配方;在此基础上又进一步研究了镀铜添加剂 稀土氯化物
CeCl对镀层质量和施镀工艺的影响,得出 CeCl的 最佳含量;最后着重探讨了焊丝表面镀铜层的缓蚀处理、铬酸 盐钝化处理和用铜镍复合化学镀层代替纯化学铜层作为焊丝保
护层三种不同工艺的..........共60页
|